一种可以在真空环境下连续进出料的CVD/PECVD设备
基本信息
| 申请号 | CN201810726973.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110629196A | 公开（公告）日 | 2019-12-31 |
| 申请公布号 | CN110629196A | 申请公布日 | 2019-12-31 |
| 分类号 | C23C16/44（2006.01）; C23C16/26（2006.01）; C23C16/513（2006.01） | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郝奕舟; 陈剑豪; 王天戌 | 申请（专利权）人 | 广州墨羲科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 510623 广东省广州市越秀区水荫路119号星光映景A中心10楼1001 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种可以在真空环境下连续进出料的CVD/PECVD装置，属于化学气相沉积(CVD)设备的技术领域，装置包括三个腔体，分别为：进料腔、反应腔、冷却腔；其中，反应腔内设有电传输机构、感温组件和支撑机构；进料腔和冷却腔内有基底材料及其载体的输送系统；其中，各腔体还配备有各自的输气、抽气系统。通过本发明提供的技术方案，实现了在CVD/PECVD制造碳材料的工艺过程中，无须改变反应腔室的温度和真空度就可以进出料的技术效果，解决了现有的CVD/PECVD设备必须在反应腔室降温和恢复大气压后才能出料和重新填料的工艺问题，提高了生产效率。 |
