无氰电镀金浴及其应用、半导体镀金件及其制备方法

基本信息

申请号 CN202210466034.4 申请日 -
公开(公告)号 CN114717618A 公开(公告)日 2022-07-08
申请公布号 CN114717618A 申请公布日 2022-07-08
分类号 C25D3/48(2006.01)I;C25D7/12(2006.01)I;C25D5/02(2006.01)I 分类 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕;
发明人 王彤;任长友;邓川;文剑;张喜 申请(专利权)人 深圳市联合蓝海应用材料科技股份有限公司
代理机构 北京润平知识产权代理有限公司 代理人 -
地址 518020广东省深圳市罗湖区笋岗街道笋西社区宝安北路1007号笋岗七号仓七层
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及电镀金领域,公开了无氰电镀金浴及其应用、半导体镀金件及其制备方法,无氰电镀金浴包括亚硫酸金盐、导电盐、有机膦酸、硫脲化合物、缓冲盐和溶剂,以所述无氰电镀金浴总量计,所述亚硫酸金盐以金元素计的含量为1‑20g/L,所述导电盐的含量为10‑120g/L,所述有机膦酸的含量为1‑50g/L,所述硫脲化合物的含量为1‑30mg/L,所述缓冲盐的含量为1‑30g/L。本发明中提供的无氰电镀金浴,不含剧毒金属离子,环保性能和安全性能好,可制备出热处理后硬度较低的电镀金,使得到的电镀金可满足半导体制造业对焊接性能的要求。