快速完成曝光时面板与掩膜精确对位的方法
基本信息
| 申请号 | CN201210429672.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103792800A | 公开（公告）日 | 2014-05-14 |
| 申请公布号 | CN103792800A | 申请公布日 | 2014-05-14 |
| 分类号 | G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01J9/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 顾玉梅 | 申请（专利权）人 | 南京华显高科有限公司 |
| 代理机构 | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人 | 夏平;瞿网兰 |
| 地址 | 210061 江苏省南京市高新开发区商务办公楼413室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种快速完成曝光时面板与掩膜精确对位的方法，它利用感光干膜实现面板与掩膜精确对位的方法，快速完成精确对位。它可以广泛用于PDP面板上光敏介质层的制备工艺中。 |
