提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法
基本信息
| 申请号 | CN201210433729.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103785651A | 公开（公告）日 | 2014-05-14 |
| 申请公布号 | CN103785651A | 申请公布日 | 2014-05-14 |
| 分类号 | B08B7/04(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I;B08B1/00(2006.01)I;H05F3/06(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 刘巍 | 申请（专利权）人 | 南京华显高科有限公司 |
| 代理机构 | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人 | 夏平;瞿网兰 |
| 地址 | 210061 江苏省南京市高新开发区商务办公楼413室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法，通过加入的有效清洁手段，并对各清洁手段进行了合理的排序，实现了对屏邦定区域的有效清洁，使邦定区域内存在的各种类型污染得到有效清除。提高了荫罩式等离子显示屏SMPDP的成品率和邦定效率，使荫罩式等离子显示屏的封接成品率达到99%以上，使得荫罩式等离子显示屏进入大规模生产成为可能。本发明提高了邦定工艺的可靠性和稳定性，大大降低了出现短路、断路后因反复修补给屏带来的安全隐患，具有提高邦定工艺安全性，提高了荫罩式等离子显示屏的成品率和工作效率的优点。 |
