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ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法

基本信息

申请号	CN201210434747.9	申请日	-
公开（公告）号	CN103789751A	公开（公告）日	2014-05-14
申请公布号	CN103789751A	申请公布日	2014-05-14
分类号	C23C18/18(2006.01)I;C03C15/00(2006.01)I;C03C17/36(2006.01)I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	花进;张雄;吴燕妮	申请（专利权）人	南京华显高科有限公司
代理机构	南京天华专利代理有限责任公司	代理人	夏平;瞿网兰
地址	210061 江苏省南京市高新开发区商务办公楼413室
法律状态	-

摘要

一种在ITO表面化学镀镍镀金前表面清洁的方法，其特征是将氟化铵、氟化氢铵及缓冲剂按一定比例混溶于去离子水中配成清洁溶液，基片用夹具装夹后浸没于清洁溶液中，根据基片表面污染程度选择合适的浸没时间，彻底去除ITO表面引线间玻璃上的污染物并使ITO刚刚露出新鲜的表面。这样清洁处理后再在ITO表面进行镍层和金层沉积时，镍层和金层只沉积于ITO表面，而在其它地方无法沉积，这就消除了因基片表面污染而造成的产品缺陷问题，大大提高了采用化学镀镍镀金方法制造Sensor产品的良率。同时因镍层和金层是沉积于新鲜的ITO表面，而非脏或异物表面，这样镍层和金层与ITO之间的结合力非常强，不会产生镍层和金层与ITO之间脱落问题，产品使用的耐久性可以得到保证。