光掩模清洗机的工艺处理舱
基本信息
申请号 | CN200820034064.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN201177730Y | 公开(公告)日 | 2009-01-07 |
申请公布号 | CN201177730Y | 申请公布日 | 2009-01-07 |
分类号 | G03F1/00(2006.01);B08B11/00(2006.01);B08B3/04(2006.01) | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
发明人 | 徐飞;金海涛 | 申请(专利权)人 | 常州瑞科微电子科技有限公司 |
代理机构 | 常州市维益专利事务所 | 代理人 | 贾海芬 |
地址 | 213022江苏省常州市新北区汉江路376号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及一种光掩模清洗机的工艺处理舱,属于光掩模清洗机技术领域。主要包括外罩、内套和顶盖,所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩、中罩和底罩构成,上罩具有圆锥形的罩壁,中罩的罩壁上设有一个抽气口,且中罩内具有一个倒锥形的挡流圈,挡流圈延伸并超过抽气口,具有排液口的底罩与内套的下部密封连接,顶盖密封安装在内套的上部。本实用新型具有能减少对光掩模交叉污染,提高光掩模清洗效率的特点。 |
