光掩模清洗机的工艺处理舱

基本信息

申请号 CN200820034064.3 申请日 -
公开(公告)号 CN201177730Y 公开(公告)日 2009-01-07
申请公布号 CN201177730Y 申请公布日 2009-01-07
分类号 G03F1/00(2006.01);B08B11/00(2006.01);B08B3/04(2006.01) 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 徐飞;金海涛 申请(专利权)人 常州瑞科微电子科技有限公司
代理机构 常州市维益专利事务所 代理人 贾海芬
地址 213022江苏省常州市新北区汉江路376号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种光掩模清洗机的工艺处理舱,属于光掩模清洗机技术领域。主要包括外罩、内套和顶盖,所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩、中罩和底罩构成,上罩具有圆锥形的罩壁,中罩的罩壁上设有一个抽气口,且中罩内具有一个倒锥形的挡流圈,挡流圈延伸并超过抽气口,具有排液口的底罩与内套的下部密封连接,顶盖密封安装在内套的上部。本实用新型具有能减少对光掩模交叉污染,提高光掩模清洗效率的特点。