全息成像结构及舞台设备
基本信息
| 申请号 | CN202110744441.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113467213A | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN113467213A | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | G03H1/22（2006.01）I;G03H1/02（2006.01）I;G03H1/00（2006.01）I;A63J5/02（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 张喆 | 申请（专利权）人 | 北京谛听视界文化科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京中和立达知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张攀 |
| 地址 | 100016北京市石景山区实兴大街30号院7号楼7层33号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及全息成像领域，尤其是涉及一种全息成像结构及舞台设备。全息成像结构包括显示屏、全息介质和影像源；所述显示屏垂直安装于基准面，以显示前景画面；所述全息介质倾斜安装于所述显示屏靠近观看者的方向，且所述全息介质与所述基准面之间的夹角为第一预设角，所述全息介质的顶端靠近所述显示屏，所述全息介质的底端远离所述显示屏；所述影像源位于所述全息介质背离所述显示屏的一侧，所述影像源的光线入射至全息介质，所述全息介质形成的虚像位于所述显示屏远离所述观看者的一侧，以显示背景画面。本申请的全息成像结构用于显示前景画面及背景画面两层画面，无需对地面做下沉处理，能够应用于多种场地，安全性更高。 |
