全息成像构造及舞台设施
基本信息
| 申请号 | CN202110744420.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113467212A | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN113467212A | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | G03H1/22（2006.01）I;G03H1/02（2006.01）I;G03H1/00（2006.01）I;A63J5/02（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 张喆 | 申请（专利权）人 | 北京谛听视界文化科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京中和立达知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张攀 |
| 地址 | 100016北京市石景山区实兴大街30号院7号楼7层33号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及全息成像领域，尤其是涉及一种全息成像构造及舞台设施。全息成像构造包括显示构件、第一全息介质、第一影像源、第二全息介质和第二影像源；显示构件显示前景画面；在显示构件的前方设置有相连接的并与显示构件的高度方向一致的第一全息介质和第二全息介质，第一全息介质和第二全息介质呈第一预设角度，第一全息介质、第二全息介质分别与显示构件呈第二预设角度、第三预设角度；第一影像源位于第一全息介质远离显示构件的一侧；第二影像源位于第二全息介质远离显示构件的一侧；第一全息介质和第二全息介质形成的虚像位于显示构件的后方，以显示背景画面。本申请的全息成像构造无需对地面做下沉处理，能够应用于多种场地，安全性更高。 |
