基材镀膜系统
基本信息
| 申请号 | CN202010457233.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113718228A | 公开（公告）日 | 2021-11-30 |
| 申请公布号 | CN113718228A | 申请公布日 | 2021-11-30 |
| 分类号 | C23C16/44（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 来华杭;俞峰;鲁天豪;娄国明;周海龙 | 申请（专利权）人 | 浙江上方电子装备有限公司 |
| 代理机构 | 杭州合信专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 沈自军 |
| 地址 | 312366浙江省绍兴市滨海新城畅和路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种基材镀膜系统，包括供气机构、反应炉以及抽气机构，所述反应炉包括第一炉体，以及位于所述第一炉体内的第二炉体，所述第一炉体与所述第二炉体之间为中间腔，所述第一炉体开设有排气口，所述第二炉体具有进气口与出气口；所述供气机构通过工艺气路与所述进气口相连通；所述抽气机构通过抽气管与所述排气口相连通，所述第二炉体连接有出气管，所述出气管的一端与所述出气口相连通，另一端穿过排气口并延伸至所述抽气管，且所述出气管与所述抽气管之间呈间隙配合，该间隙开放于所述中间腔，该方案相对于现有技术，抽气机构将第二炉体内的工艺气体抽出时，能够避免工艺气体对中间腔污染。 |
