一种适用于面板静态阵列式镀膜的真空装置
基本信息
| 申请号 | CN202120326005.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215050674U | 公开（公告）日 | 2021-12-07 |
| 申请公布号 | CN215050674U | 申请公布日 | 2021-12-07 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 来华杭;娄国明;俞峰;周海龙 | 申请（专利权）人 | 浙江上方电子装备有限公司 |
| 代理机构 | 杭州合信专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 沈自军 |
| 地址 | 312366浙江省绍兴市滨海新城畅和路7号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请提供了一种适用于面板静态阵列式镀膜的真空装置，包括至少两个经翻板阀连通的腔室，所述翻板阀包括：壳体，所述壳体的两相对侧分别开设有连通口，各连通口与相应的腔室相通，在所述壳体内带有处于两个连通口之间的隔离门洞；两阀板，转动安装于所述壳体内、且分别处在所述隔离门洞的两侧，所述两阀板在工作状态下分别密封贴靠在所述隔离门洞的两侧；驱动机构，安装于所述壳体的外部，且与所述两阀板联动。本申请真空装置能够实现单个工艺腔室的破空，减少维护时间，降低维护成本。 |
