一种PI薄膜表面化学镀铜设备
基本信息
| 申请号 | CN202022623839.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213866410U | 公开（公告）日 | 2021-08-03 |
| 申请公布号 | CN213866410U | 申请公布日 | 2021-08-03 |
| 分类号 | C23C18/38（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 万军;郁胜振;周浪 | 申请（专利权）人 | 无锡创彩光学材料有限公司 |
| 代理机构 | 无锡市大为专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 殷红梅;胡家铭 |
| 地址 | 214100江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园北区金桂路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种PI薄膜表面化学镀铜设备，包括机架和镀铜装置，机架包括第一层隔板、第二层隔板、第三层隔板、第四层隔板，镀铜装置包括盛液槽，盛液槽安装在第一层隔板顶部，盛液槽下方设有保护罩和液压缸，液压缸活塞端安装电机罩，电机罩内部安装电机，电机输出轴安装搅拌桨，保护罩内周设有设有环流管。本实用新型结构简单，易于实现，成本较低，可操作性强，将PI薄膜放置于盛料槽后，驱动液压缸可以驱动盛料槽至镀铜位置以及清洗位置，阀门可控制化学镀铜反应的过程，搅拌桨以及环流结构可以使反应充分，同时加快化学镀铜过程，加热罩兼顾调节反应温度以及烘干PI薄膜的功能，整个化学镀铜过程密封性好，可操作性强。 |
