一种高透明高耐热聚酰亚胺薄膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010190478.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111205644A | 公开（公告）日 | 2020-05-29 |
| 申请公布号 | CN111205644A | 申请公布日 | 2020-05-29 |
| 分类号 | C08L79/08;C08K9/06;C08K3/36;C08J5/18 | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 周浪 | 申请（专利权）人 | 无锡创彩光学材料有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 214000 江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园北区金桂路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种高透明高耐热聚酰亚胺薄膜及其制备方法，该薄膜具有高透明、高耐热、耐刮擦等特点，其含有0.01～1wt％含氟硅氧烷接枝改性二氧化硅粒子，且聚酰亚胺分子主链中含有双三氟甲基联苯和硅氧烷单元。所述含氟硅氧烷结构式如下所示，其中，X为Cl或甲氧基、乙氧基、碳原子数1～10的烷基中的任一种；R为碳原子数为1～20的含氟烷基。含氟硅氧烷接枝改性的二氧化硅粒子及硅氧烷嵌段单元有效提高了聚酰亚胺薄膜的耐热性能和耐刮擦性；同时改性二氧化硅粒子与含氟含硅聚酰亚胺基体树脂有良好相容性和分散性，因此聚酰亚胺薄膜保持有高光学透光率和低雾度。本发明制备的聚酰亚胺薄膜可应用于光学显示及微电子等领域。 |
