一种薄膜生长的实时测温方法

基本信息

申请号 CN201310655561.0 申请日 -
公开(公告)号 CN104697637B 公开(公告)日 2018-12-07
申请公布号 CN104697637B 申请公布日 2018-12-07
分类号 G01J5/00 分类 测量;测试;
发明人 马铁中;严冬;王林梓;刘健鹏;焦宏达 申请(专利权)人 南昌昂坤半导体设备有限公司
代理机构 北京华沛德权律师事务所 代理人 刘杰
地址 102206 北京市昌平区昌平路97号新元科技园B座503室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种薄膜生长的实时测温方法,属于半导体制造技术领域。该方法包括获得双波长测温结构的薄膜生长反应腔的校准系数;测量实际热辐射功率,将校准系数和实际热辐射功率代入公式,计算得到薄膜生长反应腔内薄膜的温度。该方法由于双波长测温结构所依附的薄膜生长反应腔经过校准,计算得到的薄膜的温度值更接近真值。