一种高效的靶材整体打磨设备

基本信息

申请号 CN202121208498.2 申请日 -
公开(公告)号 CN214722895U 公开(公告)日 2021-11-16
申请公布号 CN214722895U 申请公布日 2021-11-16
分类号 B24B7/10(2006.01)I;B24B9/00(2006.01)I;B24B27/00(2006.01)I;B24B41/02(2006.01)I;B24B47/12(2006.01)I;B24B47/22(2006.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 孔伟华;吴雪松;孔磊 申请(专利权)人 江苏迪纳科精细材料股份有限公司
代理机构 合肥方舟知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 吴伟晨
地址 211100江苏省南京市江宁区滨江经济开发区盛安大道739号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种高效的靶材整体打磨设备,涉及到靶材加工领域,包括机台和整体打磨组件,机台的两侧均固定有抛光机组支架,两个抛光机组支架的上端之间连接有横移调节组件,横移调节组件上连接有升降支座,升降支座上固定连接有升降液压驱动,升降液压驱动的伸缩杆垂直向下延伸,且升降液压驱动的伸缩杆下端连接有整体打磨组件。本实用新型中,平面打磨盘在打磨驱动电机的驱动下进行转动工作,由平面打磨盘底面的打磨面对靶材加工件的上表面进行抛光打磨,同时倒角打磨盘在打磨驱动电机的驱动下进行转动工作,同时倒角打磨盘对靶材加工件沿倒角定位穿出口延伸出的角端进行打磨,从而完成对靶材加工件进行倒角。