用于铜网制作的压延铜箔及其制备方法

基本信息

申请号 CN202110484891.2 申请日 -
公开(公告)号 CN113369301A 公开(公告)日 2021-09-10
申请公布号 CN113369301A 申请公布日 2021-09-10
分类号 B21B1/22(2006.01)I;B64D45/02(2006.01)I;C21D1/26(2006.01)I;C21D8/02(2006.01)I;C21D9/46(2006.01)I;C22B9/04(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I 分类 基本上无切削的金属机械加工;金属冲压;
发明人 张十庆;李方;赵振;王宏;聂尊誉;何钦生;姜雁斌;张瑞彦 申请(专利权)人 重庆材料研究院有限公司
代理机构 重庆志合专利事务所(普通合伙) 代理人 徐传智
地址 400707重庆市北碚区蔡家岗镇嘉德大道8号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及金属加工领域,具体涉及一种用于铜网制作的压延铜箔及其制备方法,采用纯度≥99.99%的阴极铜进行真空感应熔炼,得到铜锭后,对铜锭进行热轧成卷得到铜板,精整铜板表面,铜板经粗轧、中轧、预精轧、成品轧制得到压延铜箔,其中每一道轧制过程中退火处理,得到的压延铜箔各组分的重量百分比含量如下:Cu>99.95%,杂质元素<0.03%,所述杂质元素为Fe、P、S、O、Zn,其中,Fe为0.0015%,P为0.0016%,S为0.0011%,O为0.0031%,Zn为0.0002%。所述压延铜箔的厚度为(0.05~0.10)±0.001mm,所述铜箔的宽度>610mm,所述压延铜箔的导电率>99%IACS,电阻率为0.01730~0.01733Ω·mm/m,抗拉强度为160~240Mpa,延伸率为15~16.5%,所述压延铜箔中铜的金相组织晶粒的平均直径小于12um,是制备防雷击用铜网的理想母材。