一种温差水热法生长大尺寸体单晶的装置
基本信息
| 申请号 | CN201921423936.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210314557U | 公开（公告）日 | 2020-04-14 |
| 申请公布号 | CN210314557U | 申请公布日 | 2020-04-14 |
| 分类号 | C30B7/10(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 周海涛;张昌龙;胡章贵;李东平;左艳彬;何小玲 | 申请（专利权）人 | 桂林百锐光电技术有限公司 |
| 代理机构 | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 桂林百锐光电技术有限公司;中国有色桂林矿产地质研究院有限公司;天津理工大学 |
| 地址 | 541004广西壮族自治区桂林市七星区铁山路20号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种温差水热法生长大尺寸体单晶的装置，包括高压釜和对高压釜进行加热的加热炉，高压釜包括釜体及设置于釜体内的水热反应容器，该水热反应容器内存在溶解区和结晶区，在釜体外壁上套设有导热筒，所述的导热筒包括上、下导热筒及设置于二者之间的隔热阻挡层，其中上导热筒在纵向方向上的高度及其套装位置均对应于水热反应容器内的结晶区，下导热筒在纵向方向上的高度及其套装位置均对应于水热反应容器内的溶解区，上、下导热筒均由导热性好的金属或非金属制成，隔热阻挡层由导热性差的材料制成。本实用新型所述装置能够更为精准地控制温度，使高压釜生长区处于上下不同位置的晶体都具有均匀的生长速度。 |
