一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置
基本信息
| 申请号 | CN201921741892.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211086081U | 公开（公告）日 | 2020-07-24 |
| 申请公布号 | CN211086081U | 申请公布日 | 2020-07-24 |
| 分类号 | G01N21/45(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 吴文渊;何小玲;张昌龙;卢福华;王金亮;周海涛;李东平;覃世杰;左艳彬;宋旭东 | 申请（专利权）人 | 桂林百锐光电技术有限公司 |
| 代理机构 | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 唐智芳 |
| 地址 | 541004广西壮族自治区桂林市七星区高新区铁山工业园铁山路20号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置。所述的测试装置包括沿光轴方向依次设置的光源、聚光透镜、准直透镜、起偏器、相位补偿器、检偏器、成像镜头和相机，待测晶体置于相位补偿器和检偏器之间，所述的相位补偿器由两块光楔构成，通过调节两块光楔的相对位置来调节相位延迟量，其中所述光楔的材质为成分与待测晶体相同且光学均匀性好的晶体。本实用新型所述装置结构简单、成本低廉、便于维护且适合推广使用；采用本实用新型所述装置对晶体光学均匀进行测试时，无需反复测试背景干扰及不同偏振态激光通过晶体形成干涉图，受环境影响小，测试效率高、适合批量化的生产检测。 |
