一种一维无机高分子及其通用制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201610315617.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106006575B | 公开（公告）日 | 2017-11-14 |
| 申请公布号 | CN106006575B | 申请公布日 | 2017-11-14 |
| 分类号 | C01B19/04(2006.01)I;C01B19/00(2006.01)I;C01G29/00(2006.01)I;C01G30/00(2006.01)I | 分类 | 无机化学; |
| 发明人 | 唐江;周英;罗家俊;宋怀兵 | 申请（专利权）人 | 武汉光电工业技术研究院有限公司 |
| 代理机构 | 武汉帅丞知识产权代理有限公司 | 代理人 | 武汉光电工业技术研究院有限公司 |
| 地址 | 430075 湖北省武汉市东湖高新区高新大道未来科技城海外人才大楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一维无机高分子及其通用制备方法，属于无机高分子材料制备技术领域。本发明利用具有一维晶体结构的无机化合物为原料和液氮在超声、粉碎处理过程中实现了无机化合物的离子插层，在超声环境下，使液氮进入无机化合物分子链间隙气化，体积膨胀对分子链产生支撑力，实现无机化合物的进一步剥离，制得本发明的目标产物，即本发明的一维无机高分子。本发明首次创造性地制备出了具有最小重复单元A4B6结构的无机高分子化合物，为一维无机高分子的制备开辟了新途径，另外，本发明方法未采用任何表面活性剂，制备得到的一维无机高分子产物十分纯净，而且本发明方法方便简单、成本低，可操作性强，易于工业化生产。 |
