带激光直写的分子束外延薄膜生长装置及方法

基本信息

申请号 CN201811565248.7 申请日 -
公开(公告)号 CN111349911A 公开(公告)日 2020-06-30
申请公布号 CN111349911A 申请公布日 2020-06-30
分类号 C23C16/48(2006.01)I 分类 -
发明人 刘胜;甘志银;东芳;梁康 申请(专利权)人 广东众元半导体科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 528251广东省佛山市南海区平洲南港大街5号1楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种带激光直写的分子束外延薄膜生长装置及方法,主要包括:2个及2个以上的发射源、反射高能电子衍射仪(RHEED)、RHEED对应的衍射接收屏、衬底安置台、其他在线监测装置、激光直写装置等,本发明的特点为在薄膜生长过程中利用激光直写对薄膜进行图形化。薄膜每沉积一定的厚度便用激光对其表面进行图形化,此过程反复进行,图形化的作用一为释放生长薄膜的应力,二为促使薄膜侧向外延生长,从而提高外延生长的质量和均匀性。