测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质专利查询专利号|摘要-满商公司网

测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质

基本信息

申请号	CN202111130599.7	申请日	-
公开（公告）号	CN113884445A	公开（公告）日	2022-01-04
申请公布号	CN113884445A	申请公布日	2022-01-04
分类号	G01N21/25（2006.01）I;G06N3/04（2006.01）I;G06N3/08（2006.01）I	分类	测量；测试;
发明人	范灵杰;陈昂;石磊;殷海玮;李同宇;李政红;卢国鹏;金鸿铭	申请（专利权）人	上海复享光学股份有限公司
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	马明月
地址	200433上海市杨浦区国定东路200号4号楼412-1室
法律状态	-

摘要

本公开涉及一种用于测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质，该方法包括：获取光源所发出的多个波长的入射光的光源光谱数据；获取关于待测薄膜的出射光谱数据，出射光谱数据是利用所述入射光对包括多层的薄膜层的待测薄膜进行测量而生成的；基于所述光源光谱数据和所述出射光谱数据，计算实测光谱数据，所述实测光谱数据至少指示所述待测薄膜在入射光的多个波长下的反射率或透射率；将光源光谱数据输入用于仿真待测薄膜中的光的传播特性的薄膜网络模型，以便薄膜网络模型所输出的关于待测薄膜的模拟光谱数据接近所述实测光谱数据；以及基于所述薄膜网络模型的参数，确定所述待测薄膜的折射率和薄膜层的薄膜主体的厚度中的至少一个。本公开能够快速实现多层薄膜的光学参数的量测。