测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质
基本信息
| 申请号 | CN202110225675.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112964651A | 公开（公告）日 | 2021-06-15 |
| 申请公布号 | CN112964651A | 申请公布日 | 2021-06-15 |
| 分类号 | G01N21/25（2006.01）I;G01N21/45（2006.01）I;G01N21/47（2006.01）I;G01N21/59（2006.01）I;G06F17/15（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 范灵杰;陈昂;石磊;李同宇;殷海玮 | 申请（专利权）人 | 上海复享光学股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 黄倩 |
| 地址 | 200433上海市杨浦区国定东路200号4号楼412-1室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公开涉及一种用于测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质，该方法包括：获取关于待测对象的第一光谱数据，第一光谱数据至少指示待测对象在入射光的多个波长下、对应于多个测量角度的反射率；基于第一光谱数据，提取预定波长下的第一光谱数据，预定波长下的第一光谱数据指示待测对象在预定波长下、对应于多个测量角度的反射率；确定预定波长下的第一光谱数据中的最大反射率和最小反射率、第一测量角度和第二测量角度；以及基于最大反射率、最小反射率、第一测量角度和第二测量角度，确定待测薄膜在预定波长下的折射率。本公开能够实现无需提前假设薄膜光学常数满足的模型，以及准确测量薄膜的光学常数。 |
