一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备
基本信息
| 申请号 | CN202110266053.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113061867A | 公开（公告）日 | 2021-07-02 |
| 申请公布号 | CN113061867A | 申请公布日 | 2021-07-02 |
| 分类号 | C23C14/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 战永刚;战捷;冯红涛;周林;尹强 | 申请（专利权）人 | 深圳市三束镀膜技术有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市中科创为专利代理有限公司 | 代理人 | 刘曰莹;袁曼曼 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市龙华区福城街道福民社区核电工业园5号101 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备，包括舱体和溅射靶，溅射靶设于舱体内；舱体外还设有：门框、舱门和锁紧装置，舱体上设有开口，门框安装于开口上，舱门与门框相配合实现对舱体的关闭与打开；溅射靶朝向舱门的方向设置；锁紧装置作用于舱门，将舱门锁紧于门框上或将舱门从门框上解锁，舱门锁紧于门框上时，舱体形成一密闭容器。本发明通过将溅射靶置于舱体内，并对舱体设置舱门和锁紧装置，当达到溅射的真空要求时将舱门打开，进行溅射镀膜操作，操作完成后在真空环境下将舱门关闭并锁紧，使溅射靶真空密封于舱体内，大大减少了被氧化的情况，实现了溅射靶的免洗靶功能，且大大提高了溅射膜的纯度和反射率。 |
