一种金属掩膜版及掩膜组件
基本信息
| 申请号 | CN202111311704.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114015977A | 公开（公告）日 | 2022-02-08 |
| 申请公布号 | CN114015977A | 申请公布日 | 2022-02-08 |
| 分类号 | C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 钱超;张蔡星;李成林 | 申请（专利权）人 | 南京高光半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董成 |
| 地址 | 210000江苏省南京市栖霞区红枫科技园A7-17号门1楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出的一种金属掩膜版及掩膜组件，涉及蒸镀掩膜领域。所述的金属掩膜版的中部具有规则排布的若干开口图案；所述的金属掩膜版大体上呈矩形，且其四边均具有向其网面内侧凹陷的缺口，所述的缺口用于所述的金属掩膜版在张网拉伸时的形变预留量；所述的缺口的边缘起始于所述的矩形的顶点，且所述的缺口由其中间部位至其两侧边缘的深度逐渐减小。所述的掩膜组件包括所述的金属掩膜版。本发明通过在金属掩膜版的四边设置特定的缺口作为形变预留量，降低张网拉伸时需要给靠近金属掩膜版四角位置提供的张网拉力，实现了在控制金属掩膜版张网后下垂量的同时，避免了因在该位置拉力过大而产生的网面变形。 |
