一种光掩模板保护装置
基本信息
| 申请号 | CN202010543138.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111736425B | 公开（公告）日 | 2021-08-31 |
| 申请公布号 | CN111736425B | 申请公布日 | 2021-08-31 |
| 分类号 | G03F1/82（2012.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 顾峥;伍强;李艳丽 | 申请（专利权）人 | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 吴世华;张磊 |
| 地址 | 201210上海市浦东新区张江高斯路497号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光掩模板保护装置，包括：一对反射镜，所述反射镜相对平行设置；激光管，设于其中一个所述反射镜的一端，用于以一定的倾斜角度，向对面的另一个所述反射镜发射激光束；其中，利用所述激光束在两个所述反射镜之间来回反射，在光掩模板上形成激光阻挡网，使污染颗粒在受到激光束冲击后发生移动，并从所述光掩模板的关键区域上移除。本发明能有效防止颗粒污染光掩模板，减少有机物污染，避免缺陷印刷，并能提高成品率，提高光刻的工作效率。 |
