一种超突变变容二极管
基本信息
申请号 | CN202110747919.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113488546A | 公开(公告)日 | 2021-10-08 |
申请公布号 | CN113488546A | 申请公布日 | 2021-10-08 |
分类号 | H01L29/93(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 马文力;董文俊;张雪飞;李浩;徐婷 | 申请(专利权)人 | 扬州国宇电子有限公司 |
代理机构 | 南京源点知识产权代理有限公司 | 代理人 | 罗超;黄启兵 |
地址 | 225000江苏省扬州市吴州东路188号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了射频半导体器件技术领域内的一种超突变变容二极管,包括:N型重掺杂衬底;N型轻掺杂外延层,设置于所述N型重掺杂衬底上方;P型重掺杂层,设置于所述N型轻掺杂外延层内上部,所述P型重掺杂层向下延伸出若干个凸起一,若干个所述凸起一均呈柱状且相互间隔分布;N型掺杂缓冲层,设置于所述N型轻掺杂外延层和所述P型重掺杂层之间。该超突变变容二极管P型重掺杂层和N型掺杂缓冲层的剖面呈插值状延伸入N型轻掺杂外延层内,使得在不增加反偏结电容的前提下,增大了器件的零偏结电容,从而显著增大器件的变容比。 |
