一种CVD膜厚测量校准器
基本信息
| 申请号 | CN202021467417.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212721359U | 公开（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申请公布号 | CN212721359U | 申请公布日 | 2021-03-16 |
| 分类号 | G01B21/08(2006.01)I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 潘东辉;张自胜 | 申请（专利权）人 | 扬州国宇电子有限公司 |
| 代理机构 | 北京轻创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 潘云峰 |
| 地址 | 225000江苏省扬州市吴州东路188号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种CVD膜厚测量校准器，包括与待测晶圆尺寸匹配的板体，所述板体上均匀开设有若干个测量孔；所述板体边缘设有缺口，所述板体一侧边缘连接有手柄，所述手柄与所述板体一体成型设置，所述板体为特氟龙板体。本实用新型在测量晶圆表面CVD膜厚时，首先将晶圆放置在膜厚测量仪器上，之后将板体对准覆盖在晶圆上，并通过若干个测量孔来测量CVD若干点的厚度，有效避免点位偏差以及硅片位置偏差造成的膜厚偏差，保证测量值准确，从而提高产品质量判定的准确性。 |
