一种用于半导体制程工艺的烤箱装置
基本信息
| 申请号 | CN201921308348.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210399765U | 公开（公告）日 | 2020-04-24 |
| 申请公布号 | CN210399765U | 申请公布日 | 2020-04-24 |
| 分类号 | F26B9/06;F26B23/00;F26B25/00 | 分类 | 干燥; |
| 发明人 | 刘东明;周鑫 | 申请（专利权）人 | 上海旻艾半导体有限公司 |
| 代理机构 | 南京申云知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 上海旻艾半导体有限公司 |
| 地址 | 200120 上海市浦东新区南汇新城镇飞渡路66号6栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种用于半导体制程工艺的烤箱装置；包括带有烘烤功能的烤箱本体，该所述的烤箱本体的两侧内壁均设置有上下间隔均匀的若干组横向挂杆；两侧的横向挂杆均对称设置，而每一组横向挂杆则均包括有若干个纵向间隔均匀的单个横向挂杆组成；而两侧相对应的每组横向挂杆上还均设置有L形状结构的挂板。本实用新型的烤箱内部的空间可自由自主的分隔成可大可小的不同层数的储存空间。 |
