基于硅基可协变衬底制备氧化锌薄膜的方法
基本信息
申请号 | CN202210293497.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114664664A | 公开(公告)日 | 2022-06-24 |
申请公布号 | CN114664664A | 申请公布日 | 2022-06-24 |
分类号 | H01L21/365(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 倪明堂;赵健州;何立波;吴俊美 | 申请(专利权)人 | 广东省智能机器人研究院 |
代理机构 | 东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 523000广东省东莞市松山湖园区学府路1号5栋 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种基于硅基可协变衬底制备氧化锌薄膜的方法,包括:选用顶部具有超薄硅单晶层的SOI材料作为硅基可协变衬底,放入MOCVD设备中;排净MOCVD设备中反应室中的空气;在MOCVD设备中利用载气通入锌源,在衬底上生长一层锌隔离层;在MOCVD设备中利用载气通入锌源和氧源,使得在锌隔离层上生长氧化锌薄膜;待反应室压强升至常压,温度降至常温后,关闭载气,从MOCVD设备中取出氧化锌薄膜样品。本发明采用顶部具有超薄硅单晶层的SOI材料作为可协变衬底,可以协调Si衬底上制备生长的ZnO外延层的失配应变,既降低了膜层内积聚的残余应力,还提高了薄膜的生长质量。本发明的原材料和设备成本低,工艺简单,提高了样品的清洁度和结晶质量。 |
