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一种MOCVD设备的加热装置

基本信息

申请号	CN202210288980.4	申请日	-
公开（公告）号	CN114622187A	公开（公告）日	2022-06-14
申请公布号	CN114622187A	申请公布日	2022-06-14
分类号	C23C16/46（2006.01）I;C23C16/40（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/505（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	倪明堂;赵健州;何立波;吴俊美	申请（专利权）人	广东省智能机器人研究院
代理机构	东莞卓为知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	-
地址	523000广东省东莞市松山湖园区学府路1号5栋
法律状态	-

摘要

本发明涉及一种MOCVD设备的加热装置，包括有反应腔室、喷淋系统和底座，底座设置于反应腔室内壁底部，喷淋系统与反应腔室连通；底座包括有衬底托盘、加热组件、固定组件和旋转组件，衬底托盘设置于加热组件的上侧，固定组件设置于加热组件的下侧，衬底托盘上设置有可供衬底放置的放置槽，旋转组件驱动衬底托盘、加热组件和固定组件旋转。上述MOCVD设备的加热装置，能够通过可控硅调节器控制通向加热体的电压、电流，进而控制值加热体的功率，以实现精密控温，使反应温度精确控制在一定范围内，保证反应效率，而且能够通过固定组件将衬底固定，防止其在反应的过程中脱离衬底托盘，反应完成后固定组件可以将ZnO薄膜顶起，以供机械手取出。