光刻设备的微粒检测方法
基本信息
| 申请号 | CN201610236693.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107301959A | 公开（公告）日 | 2017-10-27 |
| 申请公布号 | CN107301959A | 申请公布日 | 2017-10-27 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 叶逸舟;杨晓松;樊佩申;陈杰 | 申请（专利权）人 | 北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司 |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明揭示了一种光刻设备的微粒检测方法。本发明的光刻设备的微粒检测方法包括：提供晶圆；传递所述晶圆至所述光刻设备中，并通过光刻工艺在所述晶圆上形成微粒采集结构；对所述晶圆进行旋转冲洗，使得微粒聚集在所述微粒采集结构的边缘；刻蚀所述晶圆的部分厚度，在微粒处进行倾斜刻蚀，使得所述微粒下方产生锥状突起；检测所述晶圆。与现有技术相比，本发明在刻蚀后，形成了锥状突起，从而使得检测设备能够检测到，达到了发现光刻设备中粒径小于检测设备极限的微粒，防止了这些微粒对产品的影响，有利于提高产品的良率。 |
