研磨垫整理方法、研磨垫整理器及研磨机台

基本信息

申请号 CN201210225955.8 申请日 -
公开(公告)号 CN103522188B 公开(公告)日 2018-07-20
申请公布号 CN103522188B 申请公布日 2018-07-20
分类号 B24B53/017;B24B37/00 分类 磨削;抛光;
发明人 唐强;刘永 申请(专利权)人 北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种研磨垫整理方法,在对晶圆进行研磨时,研磨盘下压对研磨垫进行整理,在研磨完一片晶圆后至开始进行下一片晶圆研磨之前的过程中,研磨盘以零压力停留在研磨垫上。还公开了一种用于如上所述的研磨垫整理方法中的研磨垫整理器,包括研磨盘和驱动轴,所述驱动轴驱动所述研磨盘转动。还公开了一种研磨机台,包括研磨垫,还包括如上述的研磨垫整理器,所述研磨垫整理器设置于所述研磨垫上。研磨盘可以在研磨批次晶圆的整个过程中始终停留在研磨垫上,而无需返回到清洗区域,避免了研磨盘进行反复的上行和下移运动,一方面,可以避免研磨盘碰伤晶圆,另外一方面,可以避免因碰擦其他部件而产生的颗粒物质污染晶圆。