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一种并联双气室痕量气体分析系统及气体浓度计算方法

基本信息

申请号 CN201710435871.X 申请日 -
公开（公告）号 CN107014774B 公开（公告）日 2019-08-16
申请公布号 CN107014774B 申请公布日 2019-08-16
分类号 G01N21/39;G01N21/01 分类 测量；测试;
发明人 胡雪蛟;向柳 申请（专利权）人 武汉米字能源科技有限公司
代理机构 上海精晟知识产权代理有限公司 代理人 武汉米字能源科技有限公司
地址 430072 湖北省武汉市东湖高新技术开发区高新大道999号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提出了一种并联双气室痕量气体分析系统，其特征在于，包含电路模块、光学模块和气路模块，激光驱动电路和数字温控模块都连接至激光器；分束器将激光分成两束分别通过光纤连接至标准气室和样气气室的激光入射接口；光纤连接至标准气室和样气气室的激光出射接口通过光纤分别连接至第二准直汇聚透镜和第三准直汇聚透镜；第一光电二极管探测器连接至第一前置放大电路，第二光电二极管探测器连接至第二前置放大电路。本发明消除了TDLAS技术中激光器波长漂移和温度压力变化等不稳定因素对气体分析结果的影响，提高系统对激光器性能的容错率和对环境的适应力。