一种发光二极管的制备方法
基本信息
申请号 | CN201110196359.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102244162B | 公开(公告)日 | 2013-03-13 |
申请公布号 | CN102244162B | 申请公布日 | 2013-03-13 |
分类号 | H01L33/00(2010.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 于彤军;龙浩;贾传宇;杨志坚;张国义 | 申请(专利权)人 | 北京燕园中镓半导体工程研发中心有限公司 |
代理机构 | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 苏爱华 |
地址 | 100080 北京市海淀区海淀路52号1705室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种LED的制备方法,属于光电子器件的制备领域。该方法包括如下步骤:在衬底上形成由碳纳米管与InN或高In组分的InGaN外延层材料组成的过渡层;在上述过渡层上生长LED外延片;对LED外延片进行光刻、刻蚀、沉积电极、封装工艺,制备正装结构LED;或转移衬底,对衬底进行激光剥离、分离,再进行光刻、刻蚀、沉积电极、封装工艺,制备垂直结构LED。本发明不仅可以改善晶体质量,而且可以实现应力的调控。 |
