一种减少应力组合式化工设备烧架
基本信息
申请号 | CN201821103789.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN208671691U | 公开(公告)日 | 2019-03-29 |
申请公布号 | CN208671691U | 申请公布日 | 2019-03-29 |
分类号 | F27D5/00(2006.01)I | 分类 | 炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉〔4〕; |
发明人 | 梁雪怡 | 申请(专利权)人 | 营口天元高分子树脂有限公司 |
代理机构 | 合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 陈思聪 |
地址 | 411201 湖南省湘潭市雨湖区桃园路湖南科技大学 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种减少应力组合式化工设备烧架,包括调节式底座,所述调节式底座内侧固定连接烧架板,所述调节式底座上侧滑动连接应力降低侧板,所述调节式底座底部设有底座,所述底座上侧固定连接调节器,所述调节器上设有滑槽,所述滑槽内部活动连接滑块,所述滑块上侧和下侧活动连接滑轮,所述滑块内部为中空结构,且活动连接滑杆,所述滑杆内侧连接烧架板。本实用新型通过在烧架两侧调节式底座的底座上侧设置有调节器,调节器的滑块在滑轮的带动下,在滑槽内移动,通过滑块内部的中孔结构,带动调节器上侧的侧板在滑杆上移动,从而达到组合式调节的目的,提高装置的灵活性。 |
