一种CVD化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架
基本信息
| 申请号 | CN202220182852.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216838170U | 公开（公告）日 | 2022-06-28 |
| 申请公布号 | CN216838170U | 申请公布日 | 2022-06-28 |
| 分类号 | C23C16/26（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郝振亮;蔡金明;陈其赞;黄文添 | 申请（专利权）人 | 广东墨睿科技有限公司 |
| 代理机构 | 东莞科强知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 523000广东省东莞市道滘镇万道路道滘段2号12号楼101室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种CVD化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架，包括定位板和至少三根支撑杆，所述定位板平行相对设置有两块；两所述定位板之间形成用于放置生长基底的空间；所述支撑杆的末端与所述定位板连接，形成用于卷绕生长基底的承托面；任意一根所述支撑杆上设置有用于固定所述生长基底的固定件。本实用新型同时可以在多个承托面上生长石墨烯，从而实现提高CVD法制备石墨烯薄膜的产能。同时由于支架的支撑作用，生长基底不与石英管直接接触，避免生长基底在高温反应的过程中发生形变，提高产品的良品率。 |
