光掩膜坯料及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201310646364.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103616794B | 公开（公告）日 | 2017-11-24 |
| 申请公布号 | CN103616794B | 申请公布日 | 2017-11-24 |
| 分类号 | G03F1/60(2012.01)I;G03F7/26(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 徐根;陈社诚;周志刚 | 申请（专利权）人 | 湖南电子信息产业集团有限公司 |
| 代理机构 | 长沙智嵘专利代理事务所 | 代理人 | 湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司 |
| 地址 | 410205 湖南省长沙市岳麓区麓枫路40号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种光掩膜坯料及其制备方法。该制备方法包括以下步骤：用80～100℃质量分数大于98％的硫酸浸泡玻璃基板，漂洗，烘干；依次在玻璃基板顶面上叠置形成阻挡层、遮光层、减反射层。所得光掩膜坯料的膜层反射率仅为0～1％，反射率得到极大的降低。光密度(OD)值在波长450nm处为4.5～6.0，OD值得到提高。 |
