溅射室压力稳定方法、溅射镀膜方法和稳压溅射装置
基本信息
| 申请号 | CN201510002556.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104694890B | 公开（公告）日 | 2017-03-29 |
| 申请公布号 | CN104694890B | 申请公布日 | 2017-03-29 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 徐根;陈社诚;周志刚 | 申请（专利权）人 | 湖南电子信息产业集团有限公司 |
| 代理机构 | 长沙智嵘专利代理事务所 | 代理人 | 湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司 |
| 地址 | 410205 湖南省长沙市岳麓区麓枫路40号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种溅射室压力稳定方法、溅射镀膜方法和稳压溅射装，溅射室压力稳定方法包括以下步骤：1)实时测量靶材溅射区域的真空值以得到实测值，实时测量靶材非溅射区域的真空值以得到参照值；2)调整抽取气体的速度使得所述实测值和所述参照值均处于预设压力范围内；3)调整抽取气体的速度使得所述实测值和所述参照值的差值均处于预设差值范围内。上述溅射室压力稳定方法测量了靶材溅射区域的真空值和靶材非溅射区域的真空值，反映了溅射室真空值的真实情况，通过调整抽取气体的速度，调节真空值达到预设值，并调整实测值和真空值的差值达到预设差值，使得溅射室压力稳定，制程气体的速度不变，保证溅射室内气体组分稳定。 |
