一种用于研磨抛光液的混合装置
基本信息
| 申请号 | CN202121453009.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214810211U | 公开（公告）日 | 2021-11-23 |
| 申请公布号 | CN214810211U | 申请公布日 | 2021-11-23 |
| 分类号 | B01F7/18（2006.01）I;B01F13/10（2006.01）I;B01F15/02（2006.01）I;B01F15/00（2006.01）I | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
| 发明人 | 尹宏锐;夏杰;王凤江;陶卫健;王大鹏 | 申请（专利权）人 | 南京青锐风新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 南京鼎傲知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘焕敏 |
| 地址 | 211106江苏省南京市江宁经济技术开发区胜太路68号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于研磨抛光液的混合装置，包括混合桶，混合桶的内侧顶部位置处固定安装有支撑架，支撑架的内侧转动连接有转动轴，转动轴的外侧固定连接有储料盒，储料盒的顶端开设有注料孔，注料孔的内侧螺纹连接有密封盖，储料盒的一侧端面开设有出料孔，转动轴的顶端固定连接有旋转板，转动轴的外侧与储料盒对称位置处固定连接有混合板，通过转动旋转板从而带动转动轴在混合桶的内部旋转，从而使稀土铈通过出料孔加注到原液中，然后再通过混合板将聚集的稀土铈打散，从而增加成核质点起到阻隔作用,减少纳米金刚石微晶的硬团聚，防止硬团聚纳米金刚石微晶对硅片表面造成较深的划伤，从而提升硅片加工的良品率。 |
