一种像素化量子点滤光膜的制备方法

基本信息

申请号 CN201910189557.7 申请日 -
公开(公告)号 CN109814191B 公开(公告)日 2021-08-03
申请公布号 CN109814191B 申请公布日 2021-08-03
分类号 G02B5/20(2006.01)I 分类 光学;
发明人 孙小卫;王恺;方凡;徐冰;杨鸿程;李祥;刘乙樽 申请(专利权)人 深圳扑浪创新科技有限公司
代理机构 北京品源专利代理有限公司 代理人 巩克栋
地址 518000广东省深圳市龙岗区布吉街道甘李工业区甘李六路12号中海信创新产业城18A栋8层2-3单元
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种像素化量子点滤光膜的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:(1)将像素化的金属模板置于基膜上,然后将量子点溶液涂覆在金属模板上;(2)除去量子点溶液的溶剂后去除金属基板,得到所述像素化量子点滤光膜。本发明通过金属模板的辅助,将溶剂中量子点限制在基膜的固定位置上,可以使本发明最后得到的滤光膜图案完整,且本发明是通过金属模板的辅助,溶剂和基膜的相互作用,可以确保量子点在制备过程中不会发生荧光猝灭,最后得到的滤光膜均匀性好,稳定性好;本发明提供的制备方法简单易行,对设备要求极低。