镓酸镧薄膜及其制造方法及相应的镓酸镧薄膜光电探测器

基本信息

申请号 CN201811121315.6 申请日 -
公开(公告)号 CN109449239B 公开(公告)日 2021-07-06
申请公布号 CN109449239B 申请公布日 2021-07-06
分类号 H01L31/108;H01L31/032;H01L31/036;H01L31/18 分类 基本电气元件;
发明人 谷雪 申请(专利权)人 北京铭镓半导体有限公司
代理机构 北京清诚知识产权代理有限公司 代理人 乔东峰;樊锦标
地址 101300 北京市顺义区顺强路1号1幢1层102室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种镓酸镧薄膜光电探测器,以及相应的钙钛矿结构镓酸镧薄膜及其制造方法。所述的探测器包括依次叠置的衬底、镓酸镧薄膜和电极,其中镓酸镧薄膜为(00l)取向的钙钛矿结构LaGaO3外延薄膜,衬底为LaAlO3衬底。本发明的工艺可控性强、容易操作。本发明制得的镓酸镧薄膜表面致密、厚度稳定均一,适于大面积制备、且重复性好。本发明制得的光电探测器暗电流极小、紫外可见抑制比高、响应度高、且制造工艺简单。