一种用于磁控溅射的一体式管状钼靶材的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201810341952.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108517498B | 公开（公告）日 | 2020-04-21 |
| 申请公布号 | CN108517498B | 申请公布日 | 2020-04-21 |
| 分类号 | C23C14/34;B23P15/00 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张灵杰 | 申请（专利权）人 | 洛阳科威钨钼有限公司 |
| 代理机构 | 洛阳公信知识产权事务所（普通合伙） | 代理人 | 洛阳科威钨钼有限公司 |
| 地址 | 471000 河南省洛阳市涧西区科技工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种用于磁控溅射的一体式管状钼靶材的制备方法，包括钼粉或钼合金粉过筛处理的步骤、冷等静压步骤、烧结步骤、空心锻造加工步骤、锻造步骤、退火处理步骤、机加工步骤、喷砂处理步骤、雾化喷涂步骤、清洗及干燥后步骤，制得一体式管状钼靶材。本发明采用大变形量锻造加工与再结晶热处理结合的工艺，实现晶粒组织细化且均匀性良好，使用空心锻造加工方式替代挤压成形，降低了加工设备要求和加工成本。 |
