一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110603105.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113463042A | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN113463042A | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;B22F3/04（2006.01）I;B22F3/10（2006.01）I;B22F3/17（2006.01）I;B22F3/24（2006.01）I;C21D1/26（2006.01）I;C21D9/00（2006.01）I;C22C27/04（2006.01）I;C22F1/18（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张灵杰 | 申请（专利权）人 | 洛阳科威钨钼有限公司 |
| 代理机构 | 洛阳公信联创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王学鹏 |
| 地址 | 471000河南省洛阳市涧西区先进制造业集聚区科技二路 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，包括将单组份的钼粉与钛粉形成的二元合金粉末或者钼粉、钛粉以及镍粉形成的三元合金粉末过筛处理的步骤、冷等静压步骤、真空烧结步骤、锻造加工步骤、退火处理步骤、机加工步骤、洁净处理步骤，制得钼钛合金溅射镀膜靶材；本发明通过冷等静压、真空烧结及锻造加工步骤，实现致密度高、耐腐蚀性能好且导电性能好的高性能钼钛合金的制备，制得实际密度趋近或者等于合金的理论密度，且平均晶粒尺寸≤50um的钼钛合金。 |
