深结硼衬底扩散抛光片

基本信息

申请号 CN02114202.5 申请日 -
公开(公告)号 CN1464526A 公开(公告)日 2003-12-31
申请公布号 CN1464526A 申请公布日 2003-12-31
分类号 H01L21/225;H01L21/302 分类 基本电气元件;
发明人 邓建伟;蒋小兵;刘谋华;刘清 申请(专利权)人 衡阳科晶微电子有限公司
代理机构 衡阳市科航专利事务所 代理人 傅戈雁
地址 421007湖南省衡阳市易家塘七号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开的深结硼衬底扩散抛光片,它是由硼预扩散、硼主扩散、磨片、抛光、清洗等工艺步骤制备而成的。通过上述方法制得的深结硼扩散抛光片能完全代替现有的外延片,从而大大降低了制作PNP三极管和晶闸管成本。