采用刻蚀技术扩大MCP开口面积比的方法及MCP
基本信息
| 申请号 | CN202110722026.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113451089A | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN113451089A | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | H01J9/12（2006.01）I;H01J43/24（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 邱祥彪;张正君;王健;李婧雯;杨莉莉;朱双双;任玲;乔芳建;陈晓倩;王鹏飞;李涛 | 申请（专利权）人 | 北方夜视科技（南京）研究院有限公司 |
| 代理机构 | 南京行高知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王菊花 |
| 地址 | 211106江苏省南京市江宁区秣陵街道康平街2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种采用刻蚀技术扩大MCP开口面积比的方法及MCP。在常规微通道板的腐蚀工序之后，通道阵列已完成制作，此时，增加一个刻蚀的步骤，采用一定角度的定向的反应离子刻蚀或离子束物理刻蚀，对MCP通道阵列的输入面进行刻蚀处理，处理过程中使得MCP基底进行自转，由此可获得轴对称的扩口结构，显著扩大MCP输入面的开口面积比，结合输入面镀制较浅电极技术，在不影响其他性能的情况下，显著提高MCP对于输入信号的探测效率。同时，在此基础上，在输入面镀制具有高二次电子发射系数的膜层材料，可进一步的提升探测效率。 |
