一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机

基本信息

申请号	CN201420268829.5	申请日	-
公开（公告）号	CN203941889U	公开（公告）日	2014-11-12
申请公布号	CN203941889U	申请公布日	2014-11-12
分类号	H01L21/67(2006.01)I	分类	基本电气元件;
发明人	牛海涛;范强;焦二强;李珩粉;张磊	申请（专利权）人	洛阳单晶硅集团有限责任公司
代理机构	洛阳明律专利代理事务所	代理人	洛阳单晶硅有限责任公司
地址	471009 河南省洛阳市西工区九都路77
法律状态	-

摘要

一种单工位硅抛光片载体盘冷却清洗机，适用于单晶硅片抛光生产技术领域。本实用新型是在同一工位中同时采用了传导散热和喷淋降温两种冷却方式对装片后的载体盘进行冷却、淋洗，以此来完成抛光前的准备工序。操作人员只需将装片后的载体盘放置在冷却盘（3）上，按下按钮（11），闭合舱盖（7），冷却盘（3）就会按设定工艺要求完成载体盘的冷却、淋洗工作，使接近90℃高温的陶瓷载体盘通过单面水冷、淋洗等方式降低至30℃以下，以满足下道抛光工序要求。本实用新型设备体积小，移动方便，占空间位置不足0.5平方米。使得原先需要三、四个工位才能完成的冷却、淋洗工序集中在一台设备上完成，降低了成本，节约了投资，明显提高了工作效率。