一种制备光子晶体薄膜卷绕式真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202111372847.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114086147A | 公开（公告）日 | 2022-02-25 |
| 申请公布号 | CN114086147A | 申请公布日 | 2022-02-25 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 时家明;黄晶晶;赵大鹏;陈宗胜;吕相银;李志刚;汪家春 | 申请（专利权）人 | 合肥中隐新材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张涛 |
| 地址 | 230071安徽省合肥市蜀山区井蜀路68号自主创新产业基地7栋3层309-24室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其为一种制备光子晶体薄膜卷绕式真空镀膜设备，包括真空镀膜罐，所述真空镀膜罐的底部连接有膜料蒸发系统，所述真空镀膜罐的一侧设置有排气管道，所述排气管道连接有真空排气系统，所述物料管道远离真空镀膜罐的一端连接有物料架，本发明通过在真空镀膜罐的内部设置换向辊，使光子晶体柔性材料在镀膜过程中一次就完成两层镀膜，且全程在真空过程中进行，能够保证膜料的均匀性和连续性，且通过第一冷却辊和第二冷却辊两次冷却，能够保证镀膜的稳定性，显著地提高了光子晶体膜层的厚度精确性和镀膜均匀性，提高了镀膜品质和镀膜效率，具有通用性强、适用范围广、结构简单、生产容易等特点。 |
