可调高度真空吸平台模块
基本信息
| 申请号 | CN202022652157.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213660377U | 公开（公告）日 | 2021-07-09 |
| 申请公布号 | CN213660377U | 申请公布日 | 2021-07-09 |
| 分类号 | H01L21/683（2006.01）I;H01L21/687（2006.01）I;H01L33/48（2010.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 贺云波;言益军;王波;刘青山;崔成强 | 申请（专利权）人 | 宁波阿凡达半导体技术有限公司 |
| 代理机构 | 宁波甬致专利代理有限公司 | 代理人 | 李迎春 |
| 地址 | 315200浙江省宁波市镇海区蛟川街道镇宁西路123号西电宁波产业园C幢2楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了可调高度真空吸平台模块，属于晶圆片加工设备技术领域，它包括真空吸附平台；位置调整部件，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。本实用新型提出了一种可调高度真空吸平台模块，其吸附作用面积分为若干个区间，不同区间相互组合形成多种规格，用以适应晶圆的加工要求。 |
