一种基板台、沉积部和微波等离子化学气相沉积装置
基本信息
| 申请号 | CN202020865177.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212316283U | 公开（公告）日 | 2021-01-08 |
| 申请公布号 | CN212316283U | 申请公布日 | 2021-01-08 |
| 分类号 | C30B25/00(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 王垒;温简杰 | 申请（专利权）人 | 上海昌润极锐超硬材料有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 上海昌润极锐超硬材料有限公司 |
| 地址 | 201111上海市闵行区陪昆路206号第18幢101室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种基板台、沉积部和微波等离子化学气相沉积装置，该基板台包括基板、两个以上热电偶、两个以上加热单元和控制单元；所述基板底部设有两个以上凹槽，所述热电偶和所述加热单元设于所述凹槽内；所述控制单元与所述热电偶和所述加热单元连通。本实用新型降低基板的温差，使其更适合多晶或单晶的制备。 |
