一种用于真空烧结炉的高稳定性非接触红外测温装置
基本信息
| 申请号 | CN202023051608.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213714559U | 公开（公告）日 | 2021-07-16 |
| 申请公布号 | CN213714559U | 申请公布日 | 2021-07-16 |
| 分类号 | G01J5/00（2006.01）I;G01J5/02（2006.01）I;G01J5/04（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 金卫卫;孙伟;田林茂;田国才;胡付俭;许松松;杨阳;姜丁允;冯刚;杨俊峰 | 申请（专利权）人 | 江苏亨通光导新材料有限公司 |
| 代理机构 | 苏州国诚专利代理有限公司 | 代理人 | 李小叶 |
| 地址 | 215200江苏省苏州市吴江经济技术开发区古塘路以南 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于真空烧结炉的高稳定性非接触红外测温装置，包括红外测温仪、金属外接管和石墨内接管，真空烧结炉包括炉体、炉芯管和加热件，炉体的侧壁上设有侧开窗口，金属外接管连接在侧开窗口上，并向炉体外延伸；金属外接管的外端上安装有金属锁紧盖；石墨内接管穿设于金属外接管中，且石墨内接管的内端伸入炉体中，并靠近加热件；石墨内接管的外端向炉体外延伸；石墨内接管的外端连接在金属锁紧盖上；金属锁紧盖上设有红外测温窗口；红外测温仪设置于金属外接管的前方。该红外测温装置可以避免真空烧结炉内蒸发的物质沉积到测温窗口上，从而保证了红外测温窗口的洁净度，避免沉积物质对红外测温的影响，提高了红外测温的稳定性。 |
