一种无氰化学沉厚金的沉金溶液及其工艺

基本信息

申请号 CN202210149984.4 申请日 -
公开(公告)号 CN114481107A 公开(公告)日 2022-05-13
申请公布号 CN114481107A 申请公布日 2022-05-13
分类号 C23C18/44(2006.01)I;C23C18/54(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 洪学平;姚玉;刘可 申请(专利权)人 深圳创智芯联科技股份有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 518101广东省深圳市宝安区新安街道留仙二路中粮商务公园1栋14楼1403A
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种无氰化学沉厚金的沉金溶液及其工艺,由以下成分组成:无氰金盐,以Au离子的含量计为16‑20g/L;络合剂为50‑100g/L;缓冲剂为10‑50g/L;复合还原剂为1‑5g/L;界面活性剂为0.5‑1g/L;复合稳定剂为10‑20mg/L;防蚀剂为5‑10mg/L;反应加速剂为40‑80mg/L,银离子为0.5‑1mg/L;所述复合还原剂由硼氢化钠、葡萄糖和硫酸羟胺三者组成,且所述硼氢化钠、葡萄糖和硫酸羟胺三者的质量浓度比为2:2:1;所述复合稳定剂由酒石酸锑钾、超支化聚氨酯磺酸盐和聚丙烯酰胺组成,三者按照质量浓度比为2:1:1;所述防蚀剂与反应加速剂在使用时的浓度比为1:8。该发明得到的金镀层具有良好的附着性好,镀层均匀,沉积速率快。